在2025年的SEMICON China展會上，深圳半導體設備制造商——思凱瑞工業(yè)機械有限公司（SiCarrier Industrial Machines Co., Ltd.）驚艷亮相，一次性推出了五款全新的半導體工藝設備，旨在打破國外企業(yè)在這一領域的壟斷地位。

3月26日至27日，于上海舉辦的此次盛會見證了SiCarrier的崛起。該公司展出了外延沉積設備（EPI）、原子層沉積設備（ALD）、物理氣相沉積設備（PVD）、刻蝕設備（ETCH）和化學氣相沉積設備（CVD）等五大類產(chǎn)品，吸引了業(yè)內(nèi)專家、潛在客戶及競爭對手的廣泛關注。

SiCarrier，這家由國家支持且與科技巨頭華為有著緊密聯(lián)系的企業(yè)，專注于半導體設備及電子制造工具的研發(fā)與生產(chǎn)。其母公司思凱瑞科技成立于2021年，而SiCarrier工業(yè)機械有限公司則于次年問世，兩者均隸屬于深圳市重大產(chǎn)業(yè)投資集團旗下，由深圳市國資委監(jiān)管。

此次推出的新設備覆蓋了半導體生產(chǎn)的關鍵環(huán)節(jié)，如用于先進節(jié)點和第三代半導體外延生長的外延設備、實現(xiàn)5納米以下精度薄膜沉積的原子層沉積設備，以及適用于多種制造流程的化學氣相沉積設備等。這些領域長期被應用材料（AMAT）、東京毅力電子（TEL）和ASM等國際巨頭所主導。

目前，國外供應商在這些工藝設備市場上占據(jù)了主導地位。例如，AMAT和TEL在外延設備領域領先，而ALD市場則主要由ASM和TEL控制，兩者合計市場份額超過60%。在PVD設備方面，AMAT更是以85%的市場份額獨占鰲頭。SiCarrier的最新產(chǎn)品旨在打破這一局面，其采用的先進反應室設計能夠實現(xiàn)納米級薄膜均勻性控制。

SiCarrier還展示了其支持14納米及以下節(jié)點的下一代光刻膠涂布與顯影設備，這也是長期以來被國外企業(yè)所控制的領域的一大突破。

除了沉積工具外，SiCarrier還推出了半導體檢測和測量解決方案，這是芯片制造質(zhì)量控制的關鍵環(huán)節(jié)。公司已開發(fā)出13種關鍵檢測設備，包括光學檢測（BFI）、光學測量（IBO）、PX測量（AFM）以及功率器件測試（RATE-CP）等，廣泛應用于邏輯、存儲和化合物半導體制造領域。

隨著工藝節(jié)點縮小至14納米及以下，檢測和測量在提升半導體良率方面變得尤為重要。行業(yè)分析師指出，缺陷檢測精度的輕微下降都可能對整體晶圓良率產(chǎn)生重大影響，因此高精度測量工具成為制造商不可或缺的投資。

根據(jù)VLSI Research的數(shù)據(jù)，2023年全球半導體檢測和測量市場規(guī)模達到128.3億美元，中國市場則達到43.6億美元。盡管市場規(guī)模龐大，但國內(nèi)制造商在與國外成熟企業(yè)的競爭中仍處于劣勢。不過，從2019年至2023年，中國企業(yè)在計量領域的市場份額已從0.61%增長至4.34%，顯示出本地化進程的加速。

SiCarrier在光學系統(tǒng)、材料和工藝控制技術方面已累計獲得80余項專利。最近的專利申請包括熱輻射結構、工藝室設計和靜電吸盤技術等方面的創(chuàng)新，這些技術解決了晶圓處理中的電荷耗散挑戰(zhàn)。

目前，SiCarrier已開發(fā)出六大類半導體工具，并計劃繼續(xù)提升其技術能力。深圳作為中國半導體行業(yè)的重要樞紐，雖然在芯片設計方面表現(xiàn)突出，但在制造領域一直相對落后。SiCarrier的崛起，無疑為深圳乃至中國半導體制造業(yè)注入了新的活力。